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外延硅片相关论文
外延硅片表面时间雾的形成及其机理
在外延片的生产中,有时会遇到外延硅片在洁净室中暴露一段时间后产生雾状宏观缺陷(即所谓的时间雾)的不利情形。然而,关于外延硅片表面......
期刊
外延硅片
时间雾
无机组分
有机组分
重掺磷直拉硅单晶中缺陷的研究
功率半导体器件在计算机、通信、消费电子和工业控制以及在电力电子等领域获得广泛的应用,它们还在节能减排中发挥着重要的作用。......
学位
直拉硅单晶
外延硅片
重掺磷
氧沉淀
氮杂质
择优腐蚀
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