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反应蒸发沉积相关论文
在低基片温度下制备的 ITO 透明导电膜的性能
发展了使用直流辉光放电等离子体辅助反应蒸发法在低温玻璃基片上制备ITO膜的工艺,研究了主要的工艺参数,如Sn/In配比,氧分压,基片温度等对于膜......
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基片温度对直流辉光等离子体辅助反应蒸发法沉积的ITO膜性能的影响
使用直流辉光等离子体辅助反应蒸发法沉积了ITO透明导电膜,通过膜的霍尔系数测量及XRD,SEM分析,详细研究了沉积时的基片温度对透光率和电阻率的......
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