厚层抗蚀剂相关论文
在论文中基于抗蚀剂的光化学和反应动力学理论,重点研究了一些非线性因素对厚层抗蚀剂光刻带来的影响.针对厚层抗蚀剂在日曝光过程......
针对厚胶曝光参数随不同光刻胶厚度及工艺条件变化的特点,在原有Dill曝光模型基础上,建立了适合于描述厚胶曝光过程的增强Dill模型......
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厚层抗蚀剂光刻是一种制作深浮雕结构的微细加工技术。综述了近年来厚层抗蚀剂光刻技术的最新进展，从厚层抗蚀剂光刻工艺原理以及计......
针对厚层抗蚀剂曝光过程中存在诸非线性因素的影响，更新Dill曝光参数的定义，建立了适合描述厚层抗蚀剂曝光过程的增强Dill模型．光刻过......
DILL曝光模型和MACK显影模型,编制了接触式曝光系统的厚层抗蚀剂光刻模拟软件,用其分析在理想曝光剂量条件下,抗蚀剂显影后的线宽......
