交替复合深刻蚀相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

交替复合深刻蚀相关论文

电感耦合等离子体（ICP）深刻蚀的模型与模拟

为对交替复合深刻蚀过程进行工艺仿真,本文利用鞘层近似模型,以离子辅助刻蚀和直接粒子刻蚀的组合来实现交替复合深刻蚀过程中的刻......

期刊

电感耦合等离子体交替复合深刻蚀模型模拟 inductively coupled plasma time multiplexed deep etching

硅快速深刻蚀技术的研究

随着MEMS技术中硅基高深宽比微细结构和3-D封装中穿透硅通孔技术的应用,硅的感应耦合等离子体（ICP）刻蚀技术成为国内外研究的热点。......

学位

ICP刻蚀掩蔽层图形化刻蚀速率选择比交替复合深刻蚀

看过本文同时还关注