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[会议论文] 作者:刘明, 来源:第十二届全国电子、离子和光子学术年会 年份:2003
电子曝光技术是目前集成加工的重要手段,本文对电子曝光设备的结构及电子曝光技术的应用进行了介绍....
[会议论文] 作者:张建宏,陆晶,陈宝钦,刘明,牛洁斌, 来源:第十二届全国电子、离子和光子学术年会 年份:2003
本文重点介绍利用可变矩形电子曝光机精确制版中间掩模板或在硅片上直写图形时,如何通过校准子程序对电子的形态及位置进行调整,使制版的精度要求得到保证.经过调整,使...
[会议论文] 作者:董晓浩,高飞,黄志刚,赵飞云,洪义麟,徐朝银, 来源:第十二届全国电子、离子和光子学术年会 年份:2003
在大尺寸光栅元件离子刻蚀技术中,改善离子流密度均匀性是研制离子刻蚀系统的关键技术之一.通过简介6×66cm RF条形宽离子源和测试其流密度的空间分布,分析了影响...
[期刊论文] 作者:陈思富,夏连胜,李勤,禹海军,杨琼松,王勐,章林文, 来源:强激光与粒子 年份:2003
为了快速获得直线感应加速器电子剖面信息以便能加速加速器的调试,研制了一套基于切伦科夫辐射的斑测量装置,如图1所示。切伦科夫辐射体采用φ80,厚度0.5mm的石英玻璃。石...
[会议论文] 作者:陈宝钦,刘明,任黎明,卜海,张国艳,陆晶,龙世兵,李泠,薛丽君,牛洁斌, 来源:第十二届全国电子、离子和光子学术年会 年份:2003
电子直写是深亚微米加工技术的重要手段,但是由于电子散射、背散射现象的存在以及电子高精度扫描成像曝光低效率的问题影响了电子曝光技术的应用,实践证明电子邻近效应校正技术和电子与光学曝光系统的匹配和混合光刻技术相结合是一种非常有效的办法...,本文将重点介绍电子直写和混合光刻中如何保证高精度定位和套准的对准标记设计与制造技术问题....
[期刊论文] 作者:陈思富,夏连胜,章林文,丁伯南, 来源:强激光与粒子 年份:2003
流剖面信息的获得对于加速器的研究有着重要的意义.对强流短脉冲电子加速器剖面测量技术作了评述.目前,发展时间分辨的快响应的光学测量技术及实时在线测量为主要发展趋...
[期刊论文] 作者:邱爱慈,张永民,黄建军,郑建,彭建昌,汤俊萍,杨海亮,丁升, 来源:强激光与粒子 年份:2003
简要分析了反映高能注量电子品质的主要参数在诊断上的技术困难,重点介绍了高能注量电子参数诊断的三种参数的测量方法,包括内过滤法对电子瞬态有效入射角的测量、法拉...
[会议论文] 作者:顾文琪, 来源:第十二届全国电子、离子和光子学术年会 年份:2003
电子曝光技术是微电子、光电子和微机械研究和器件生 产的关键技术.电子曝光是掩模制作的主要手段.电子直写(EBDW)系统可达分辨率5nm,成为纳米器件、纳米结构研究的关...
[期刊论文] 作者:王双义,林殿阳,吕志,赵晓彦,王超,王晓慧, 来源:强激光与粒子 年份:2003
提出了时间上串行的多路激光脉冲通过受激布里渊散射(SBS)池进行组的方法,并对其进行了数值模拟研究.利用6能量为45J的KrF激光进行组, 可获得能量为141.89J,脉宽为...
[期刊论文] 作者:王筠华,贡顶,孙葆根,刘建宏,卢平,杨永良,郑凯, 来源:强激光与粒子 年份:2003
存储环流截面及发射度是同步辐射加速器重要的基本参数.从流截面大小的变化和斑位置的移动规律,可以进行环上的流不稳定性的研究.介绍了合肥光源,储存环流截面测量...
[会议论文] 作者:李泠,刘明,陈宝钦, 来源:第十二届全国电子、离子和光子学术年会 年份:2003
电子光刻技术是推动微电子技术和微细加工技术进一步发展的关键技术之一,尤其在百纳米到纳米加工领域的科研和开发中,电子光刻技术起到不可替代的作用.本文重点介绍JEOLJBX-5000LS电子对准标记的检测技术...,有助于我们在利用电子光刻技术研制开发集成电路时,优化对准标记制作工艺,提高电子光刻套准精度....
[期刊论文] 作者:夏国兴,夏佳文,刘伟,杨建成,武军霞,殷学军,赵红卫,魏宝文, 来源:强激光与粒子 年份:2003
电子冷却系统中冷却力的大小与电子的温度密切相关.由于强流电子自身产生的空间电荷场,使得电子的速度离散,增加了电子温度,降低了冷却效率.为了减小空间电荷效应,HI...
[期刊论文] 作者:夏国兴,夏佳文,杨建成,武军霞,刘伟,殷学军,赵红卫,魏宝文, 来源:强激光与粒子 年份:2003
通过求解电子冷却系统中冷却段漂移管区的强流电子产生的空间电荷场,研究了电子空间电荷效应对电子温升的影响.结合HIRFL-CSR电子冷却系统的典型参数,得到了电子在自身空...
[会议论文] 作者:郭忠君,刘求益,邱小莎,周建伊,刘冬明, 来源:第十二届全国电子、离子和光子学术年会 年份:2003
电子曝光是迄今为止分辨率最高的微细加工手段之一,是生产及研制微电子器件及特种微型器件的关键性技术.文章介绍了我所最新研制的M24100-1/UM型电子曝光机的主要技术指标、原理、结构及实验结果,并扼要介绍了影响电子图形精度变化的主要原因及具体解决措施...
[期刊论文] 作者:沙增斌, 来源:秘书工作 年份:2003
礼貌,礼节,礼仪可以统称为与法同途又殊途。与理可以并肩也可以分手。适用于所有人,而法和理都有缺口。有普遍性。人为什么要讲,因为人与人要接触。与人接触...
[期刊论文] 作者:谭峭峰,严瑛白,金国藩,邬敏贤,徐端颐, 来源:强激光与粒子 年份:2003
采用精细化设计方法,进行了菲涅耳区衍射光学匀滑器件的设计,利用爬山-模拟退火混合优化算法,获得了真实的匀滑分布,不仅控制了算法采样点上的光强分布,还控制了其他非采...
[期刊论文] 作者:陈献忠,姚汉民,陈旭南, 来源:强激光与粒子 年份:2003
介绍两种用亚稳态氦原子制作纳米结构的新方法.亚稳态原子从原子源喷出后首先对其进行横向激光冷却,准直后的原子穿过与之垂直的激光驻波场时发生淬火过程,原子的密度...
[期刊论文] 作者:王英剑,李庆国,范正修, 来源:强激光与粒子 年份:2003
运用电子、离子辅助和离子溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线...
[期刊论文] 作者:杨海亮,邱爱慈,孙剑锋,何小平,汤俊萍,王海洋,李洪玉,张嘉, 来源:强激光与粒子 年份:2003
给出用'闪光二号'加速器高功率离子轰击19F靶产生6~7MeV准单能脉冲γ射线的实验结果;提出采用离子传输法分离和降低轫致辐射干扰的方法,利用闪烁体探测器和半导体...
[期刊论文] 作者:杨海亮,邱爱慈,孙剑锋,何小平,汤俊萍,王海洋,李洪玉,张嘉生,许日,彭建昌,任书庆,李鹏,杨莉,黄建军,张国光,欧阳晓平, 来源:强激光与粒子 年份:2003
 给出用“闪光二号”加速器高功率离子轰击19F靶产生6~7MeV准单能脉冲γ射线的实验结果;提出采用离子传输法分离和降低轫致辐射干扰的方法,利用闪烁体探测器和半导体探测...
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