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[期刊论文] 作者：杜国成,,
来源：中国集成电路 年份：2003
【正】 中国科学院是国家科学技术方面最高学术机构和研究中心,是中国规模最大的国立科研和研究生教育机构。中国科学院根据其"面向国家战略需求、面向世界科技前沿"的新时...
[期刊论文] 作者：孙加兴,叶青,周玉梅,叶甜春,
来源：半导体学报 年份：2003
通过模拟分析了0.18μm CMOS工艺条件下的信号完整性问题．在进行串扰延迟和噪声分析中发现了一些规律，这些规律对以后的设计有一定的指导意义．...
[期刊论文] 作者：孙加兴,叶青,周玉梅,叶甜春,
来源：半导体学报 年份：2003
通过模拟分析了 0 18μmCMOS工艺条件下的信号完整性问题 .在进行串扰延迟和噪声分析中发现了一些规律 ,这些规律对以后的设计有一定的指导意义 .The problem of signal i...
[期刊论文] 作者：刘渝珍,石万全,赵玲莉,孙宝银,叶甜春,
来源：发光学报 年份：2003
在5.0eV的激光激发下,在室温下富硅的LPCVD氮化硅薄膜可发射六个PL峰,其峰位分别为2.97, 2.77, 2.55, 2.32, 2.10, 1.9eV.经900～1 100℃在N2气氛下快速退火(RTA)处理后,样品的...
[会议论文] 作者：王玮冰,欧毅,陈大鹏,叶甜春,孙雨南,崔芳,
来源：第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会 年份：2003
MEMS可变F-P腔器件,在制作上采用标准的MEMS硅表面加工工艺.它具有体积微小、易于集成、插入损耗小、调节精度高等明显优点.MEMS可变F-P腔器件具有多种应用的特点.本文将说明MEMS可变F-P腔器件的工作原理、主要器件的加工制备工艺、制备加工中遇到的困难和目前......
[期刊论文] 作者：王玮冰,叶甜春,陈大鹏,伍小平,张青川,潘亮,段志辉,
来源：微纳电子技术 年份：2003
报道了一种利用MEMS技术制备,基于双材料悬臂梁结构的非制冷红外焦平面阵列(FPA)并配有可见光读出部分的红外成像系统,可以在8～14μm光谱区得到成像.基于该结构的非制冷红外成...
[会议论文] 作者：谢常青;刘明;陈宝钦;陈大鹏;康晓辉;陆晶;叶甜春;,
来源：第十三届全国半导体集成电路、硅材料学术会 年份：2003
光刻技术一直是集成电路工业发展中的重要推动力,移相掩模是提高光刻分辨率的重要分辨率增强技术.本文对无铬相位光刻和有铬的常规混合移相掩模进行了初步研究,采用PROLITH8....
[会议论文] 作者：杨清华,叶甜春,陈大鹏,李兵,赵伶俐,胥兴才,刘明,陈宝钦,
来源：第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会 年份：2003
电子束散射角限制投影光刻(SCALPEL—Scattering with Angular Limitation Electron Projection Lithography)技术是下一代光刻技术的主要候选者,其中掩模研制是其关键技术之...
[会议论文] 作者：李兵;刘辉;陈大鹏;谢常青;王玮冰;王冠亚;胥兴才;陈朝晖;叶甜春;,
来源：第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会 年份：2003
电感耦合等离子体干法刻蚀技术(ICP)以其高密度高能量和刻蚀各向异性的特点越来越多的在微细加工领域被应用,微电子中心凭借在设备和工艺研发上的优势,在该领域进行了许多深...
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