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[会议论文] 作者：孙建军,黄海苟,田中群,田昭武,蒋利民,罗瑾,穆纪千,叶雄英,周兆英,张涛,孙立宁,
来源：第四届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2000
本文简要介绍了电化学应用于微系统技术中的几个例子,着重介绍了约束刻蚀剂层技术(CELT)在微加工方面的最新研究进展,用规整微结构模板对半导体材料的加工刻蚀....
[期刊论文] 作者：刘柱方,蒋利民,汤儆,张力,田昭武,刘品宽,曲东升,孙立宁,叶雄英,周兆英,田中群,
来源：微纳电子技术 年份：2003
主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系 ,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺 ,以规整的齿状结构为...
[会议论文] 作者：张力[1]汤儆[1]马信洲[1]田中群[1]田昭武[1]曲东升[2]丁庆勇[2]孙立宁[2],
来源：第十三次全国电化学会议 年份：2005
硅是微机电系统中(MEMS)应用最为广泛也是最为重要的材料,硅的微加工已经成为MEMS中的核心技术之一.光刻技术是目前硅微加工的主流技术,近来许多新技术不断涌现,意图寻找更为...
[会议论文] 作者：刘柱方,周兆英,田中群,蒋利民,汤儆,张力,田昭武,刘品宽,曲东升,孙立宁,叶雄英,
来源：中国微米/纳米第六届学术年会 年份：2003
主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺, 以规整的齿状结构为模板, 在Cu的表面实现了三维微结构的复制加工,得到了与齿状结构模板互补的三维微结构,......
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