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[期刊论文] 作者：B. P. Piwczyk,于歌,,
来源：半导体设备 年份：1979
电子束和X射线技术已经在半导体工艺中被用以制版、片子光刻以及探测等目的。目前的问题是:电子束和X射线技术将在多大程度上补充或取代光学的光刻方法。E-beam and X-ray...
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