搜索筛选:
搜索耗时0.5896秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 19 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者：徐鑫培,,
来源：光学仪器 年份：1981
JKG-3型半自动接近式光刻机最近在沪通过鉴定,大会由光学公司付经理宋长标同志主持,中国科学院学部委员王守觉同志主持了鉴定委员会工作。本机是制造中、大规模集成电路...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,
来源：光电子技术与信息 年份：1991
...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,
来源：上海光机 年份：1989
...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,
来源：上海光机 年份：1989
...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,
来源：上海光机 年份：1989
...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,
来源：上海光机 年份：1990
...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,,
来源：集成电路应用 年份：1986
新一代的高速CMOS逻辑IC(74HC系列)在不断增产,它具有与LSTTL(Low Powel Shottkag TTL)相匹敌的高速度,并且具有CMOS器件特有的低功牦。74HC系列从大量生产至今只有2年,虽然...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,,
来源：集成电路应用 年份：1986
目前,在TTL系列中,LSTTL已成为主流,这是引起个人计算机畅销和OA机普及的重要因素。另一方面,在CMOS系列中,由于其动作原理上具有低功耗特性,这一优点应用到VTR机和音频产品...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,,
来源：集成电路应用 年份：1985
英国政府为发展微电子工业拨款资助3.16亿美元。英国工业部(DTI)为了开发微电子工业,计划到1990年拨款1.728亿美元,在格拉斯哥到爱丁堡的广大罗兰平原上建立英国的硅谷。第...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,,
来源：光学仪器 年份：1983
本文介绍了日本卡农公司PLA—520FA型远紫外光刻机用各种抗蚀剂对远紫外的曝光特性和以一微米图形的LSI应用为目标所试验的结果。This article describes the Japanese com...
[期刊论文] 作者：余人山,徐鑫培,
来源：上海光机 年份：1989
...
[期刊论文] 作者：Mouch.,J,徐鑫培,
来源：上海光机 年份：1990
...
[期刊论文] 作者：胡凯,徐鑫培,
来源：上海光机 年份：1989
...
[期刊论文] 作者：Spill.,E,徐鑫培,
来源：上海光机 年份：1990
...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,章民泰,
来源：上海光机 年份：1989
...
[期刊论文] 作者：董家福,徐鑫培,
来源：上海光机 年份：1989
...
[期刊论文] 作者：徐鑫培,章民泰,
来源：上海光机 年份：1990
...
[会议论文] 作者：顾锦善,徐鑫培,
来源：1988年全国大规模集成电路专用设备学术交流年会 年份：1988
...
[期刊论文] 作者：黄耀轩,王文祺,徐鑫培,,
来源：仪表工业 年份：1981
前言将掩模板上的线路图形,通过光刻的方法,完整无缺地晒印在涂有光刻胶的硅片上,是制作集成电路最关键的技术之一。随着集成电路的发展,图形线宽越来越细,对工艺流程的要求...
相关搜索：
