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[学位论文] 作者：徐嶺茂,,
来源：浙江大学 年份：2013
随着集成电路特征线宽的不断减小和集成电路用硅片直径的不断增大及硅片加工精度要求的不断提高,硅单晶机械性能的重要性日益凸显。快速热处理(RTP)是集成电路制造中一步非常...
[期刊论文] 作者：徐嶺茂,王济洲,熊玉卿,何延春,
来源：真空与低温 年份：2014
通过计算得出了蒸发源位于倒圆锥面正下方外部镀膜时锥面上各点的膜厚方程，并对整个锥面上膜厚均匀性进行了理论分析。结果表明：当圆锥面形状固定时，蒸发源与圆锥底圆圆心距离增......
[期刊论文] 作者：徐嶺茂,王济洲,李坤,王多书,周晖,
来源：真空与低温 年份：2021
红外滤光片,尤其是中长波红外窄带滤光片等光谱指标要求较高的红外光学薄膜,膜层厚度能达到几十微米,因而对膜料的需求非常大。当镀膜真空室较大时,一次填料不能满足膜料用量需求,通常采用减小蒸发距离的方式提高膜料的利用率,但同时会使膜厚均匀性变差,光谱性......
[期刊论文] 作者：徐嶺茂,高超,董鹏,赵建江,马向阳,杨德仁,,
来源：物理学报 年份：2013
研究了单晶硅片中维氏压痕诱生的位错在不同气氛下高温快速热处理中的滑移行为.研究表明:在快速热处理时,位错在压痕残余应力的弛豫过程中能发生快速滑移;当快速热处理温度高...
[期刊论文] 作者：徐嶺茂,何延春,郑军,熊玉卿,周晖,王多书,
来源：中国表面工程 年份：2019
采用离子束辅助电子束蒸发方法在硒化锌基底上制备氟化钇(YF3)单层650 nm薄膜样品,基于其空间低温应用环境,利用液氮杜瓦及傅里叶变换红外光谱仪建立的薄膜材料变温光学测试...
[会议论文] 作者：徐嶺茂,李佑路,王多书,武生虎,张凯锋,何延春,
来源：第十六届全国光学测试学术交流会 年份：2016
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[会议论文] 作者：徐嶺茂,李佑路,王多书,武生虎,张凯锋,何延春,
来源：第十一届全国表面工程大会暨第八届全国青年表面工程学术会议 年份：2016
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[期刊论文] 作者：徐嶺茂,周晖,张凯锋,郑军,李坤,王济洲,王多书,
来源：红外与毫米波学报 年份：2018
利用电子束蒸发方法在双面抛光的ZnSe基底上镀制单层Ge薄膜.在80 K300 K温度范围内,采用PerkinElmer Frontier傅里叶变换红外光谱仪低温测试系统每20 K测量Ge单层在2-15μm波...
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