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[期刊论文] 作者：任明放,
来源：桂林电子工业学院学报 年份：1997
快速，准确地对分光计进行望远镜调焦和调节望远镜的光轴垂直于分光计的中心轴，是使用分光计的关键和难点，本文介绍了一种简便的分光计调整辅助装置。该装置由望远镜物镜，簿毛玻璃......
[期刊论文] 作者：杨涛, 任明放,,
来源：大学物理实验 年份：2002
本文阐述了力学实验中的长度设计性实验，从实验题目、实验方案的拟订、仪器的配置、测量和操作，给学生提供了较大的空间，调动了学生的独立创造意识。...
[期刊论文] 作者：丘伟,任明放,
来源：桂林电子工业学院学报 年份：2002
电桥电路由于测量精度高、方法巧妙，在电磁测量技术中有极其广泛的应用，不仅可测电阻、电容、电感，而且在非电量电测技术上应用也十分广泛，如力、位移、形变、温度、湿度、压力等......
[期刊论文] 作者：任明放,王华,
来源：无机材料学报 年份：2008
采用sol-gel工艺制备了Pt／SrBi2Ta2O9／Bi4Ti3O12／p—Si异质结．研究了退火温度对异质结微观结构与生长行为、漏电流密度和C-V特性等的影响．研究表明：成膜温度较低时，SrBi2Ta2O9、Bi4T...
[期刊论文] 作者：杨涛,任明放,
来源：大学物理 年份：2005
对传统的刚体转动实验仪时间的测量方法进行了改进,提高了实验测量的精度,拓展了实验内容.同时也可以作为开放、设计性实验....
[期刊论文] 作者：王华,任明放,,
来源：物理学报 年份：2007
采用溶胶凝胶工艺在p-Si衬底上制备了SrBi2Ta2O9/Bi4Ti3O12复合铁电薄膜.研究了SrBi2Ta2O9/Bi4Ti3O12复合薄膜的微观结构与生长行为、铁电性能和疲劳特性.研究表明:Si衬底Bi4...
[期刊论文] 作者：任明放,王华,
来源：无机材料学报 年份：2004
采用sol-gel 工艺制备了Pt/SrBi2Ta2O9/Bi4Ti3O12/p-Si异质结.研究了退火温度对异质结微观结构与生长行为、漏电流密度和C-V特性等的影响.研究表明:成膜温度较低时, SrBi2Ta2...
[期刊论文] 作者：李震春,陈旭,任明放,,
来源：现代电子技术 年份：2008
结合热敏电阻电桥温度计，提出一种处理非线性问题的二步线性化方法，导出几种典型的二步线性化方法的线性方程、最大非线性误差及温度测量最大误差的解析式，并指出二步线性化方法......
[期刊论文] 作者：张云峰,王华,任明放,
来源：电子元件与材料 年份：2008
采用sol-gel法制备了Si基Bi3.25La0.75Ti2.94Nb0.06O12.03（BLTN）铁电薄膜，研究了退火温度、升温速率和退火时间对BLTN薄膜微观结构的影响。结果表明：制备的BLTN薄膜具有单一的钙...
[期刊论文] 作者：张云峰,王华,任明放,
来源：电工材料 年份：2008
采用溶胶-凝胶法（Sol-gel）在p-Si和Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备Bi3.25La0.75Ti2.94Nb0.06O12（BLTN）铁电薄膜,研究了BLTN薄膜的晶相结构、表面形貌、铁电性能、介电性能和C-V性能。结...
[期刊论文] 作者：许积文,王华,任明放,成钢,
来源：第六届中国功能材料及其应用学术会议 年份：2007
采用氧化锌铝陶瓷靶材,在室温下使用无氧直流磁控溅射法于载玻片衬底上制备了ZnO:Al透明导电薄膜,研究了溅射功率对薄膜微观结构、电阻率和透光率的影响。结果表明：薄膜具有六方纤锌矿结构并沿c轴择优取向生长,沉积速率与溅射功率呈准线性关系.溅射功率对薄膜的......
[期刊论文] 作者：许积文,王华,任明放,成钢,
来源：电工材料 年份：2007
以氧化铝（Al2O3）掺杂的ZnO陶瓷靶材为基础，室温下采用无氧直流磁控溅射法在载玻片衬底上制备了ZnO：Al（ZAO）透明导电薄膜，研究了不同的Al2O3掺杂量对薄膜微观结构、电阻率和透光率性......
[期刊论文] 作者：许积文,王华,任明放,杨玲,,
来源：兵器材料科学与工程 年份：2009
氧化锌（ZnO）是直接宽带隙半导体材料,有高达60 meV的激子束缚能,是下一代短波长光电材料的潜在材料。有效的p型ZnO薄膜掺杂是实现ZnO基光电器件的基础,虽然取得一定的进展,但从...
[期刊论文] 作者：任明放,冯湘,王华,许积文,,
来源：兵器材料科学与工程 年份：2010
采用直流磁控溅射工艺,室温下在载玻片上制备ZnO∶Al透明导电薄膜。研究Al掺杂和溅射功率对薄膜生长取向、微观结构和电阻率的影响。研究表明：不同溅射功率下Al掺杂ZnO薄膜均...
[期刊论文] 作者：任明放,王华,许积文,杨玲,
来源：太阳能学报 年份：2009
采用直流磁控溅射工艺，室温下在载玻片上制备了氧化锌铝透明导电薄膜。研究了溅射功率和氩气压强对薄膜微观结构和电性能的影响。研究表明：溅射功率和氩气压强通过改变晶粒尺寸......
[期刊论文] 作者：任明放,王华,许积文,杨玲,
来源：人工晶体学报 年份：2009
采用室温溅射加后续退火工艺制备了ZnO∶Al透明导电薄膜。研究了热处理工艺对薄膜微观结构和光电性能的影响。研究表明：退火有助于减小Al3＋对Zn^2＋的取代造成的晶格畸变,消除应......
[期刊论文] 作者：许积文,王华,任明放,杨玲,,
来源：功能材料 年份：2007
以纳米量级的ZnO和Al2O3粉体为原料，通过湿式球磨得到了混合粉体，再经过模压成型与常压烧结工艺即可获得致密度超过95％的ZnO：Al陶瓷靶材，其电阻率可达10^-2Ω·cm数量级。高致...
[期刊论文] 作者：许积文,王华,任明放,成钧,,
来源：材料科学与工程学报 年份：2007
基于Al2O3掺杂量为3wt%的氧化锌铝陶瓷靶材,采用直流无反应磁控溅射法在载玻片衬底上制备了ZnO:Al透明导电薄膜.研究了氩气压强对薄膜微观结构和光电性能的影响.结果表明:氩...
[期刊论文] 作者：任明放,王华,许积文,杨玲,
来源：液晶与显示 年份：2009
采用直流磁控溅射工艺，在室温条件下制备了ZnO：Al（ZAO）薄膜，研究了Al掺杂量和溅射工艺参数等对ZAO薄膜光电性能的影响。结果表明：Al掺杂量和溅射工艺参数均对薄膜的电阻率有显著影......
[期刊论文] 作者：左伟华,王华,任明放,成钧,
来源：信息记录材料 年份：2007
采用溶胶-凝胶（Sol-Gel）法制备铁电Bi4Ti3O12（BIT）薄膜，研究退火温度对其微观特性的影响，以掌握制备工艺中最佳退火温度。研究表明，随着退火温度的增加，BIT薄膜的C轴取向生长更明显，晶......
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