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[会议论文] 作者：Xinkun Liu,Aidi Li,Tongfei Cui,Jie Zhang,
来源：2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份：2011
Atomic layer deposition (ALD) has recently been widely studied for the precisely controlling of thickness and uniformity,especially for the high-k materials....
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