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[期刊论文] 作者：齐藤纯,尹恩华,刘懋才,
来源：低温与特气 年份：1986
将从半导体制造设备排出的台有硅烷系气体的废气通过以固体金属氧化物为主要成分的填料层，高效率地除去该硅烷系气体，至少使浓度降低到0．5ppm以下。...
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