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[学位论文] 作者：赵之雯,,
来源： 年份：2011
降低微晶硅太阳能电池的成本最直接有效的方法是提高沉积速率,这使微晶硅薄膜的高速沉积问题成为太阳能电池产业化进程中一个必须攻克的难题。本文采用高压高功率结合VHF-(甚...
[期刊论文] 作者：赵之雯,,
来源：大众科技 年份：2007
对蓝宝石衬底片的化学机械抛光进行了研究。系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数，通过大量实验总结出了其影响因素并提出了优化方案，结果表明，采用粒径为40nm、低分散度的......
[期刊论文] 作者：赵之雯,,
来源：超硬材料工程 年份：2007
对蓝宝石衬底片的化学机械抛光进行了研究。系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数,通过大量实验,总结出了其影响因素并提出了优化方案。结果表明,采用粒径为40nm、低分...
[期刊论文] 作者：赵之雯,,
来源：新技术新工艺 年份：2008
通过对蓝宝石衬底片的化学机械抛光工艺的研究，系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数，并经过大量试验，总结出影响因素，提出优化方案。得到的结果是：采用粒径为40nm、低分散度......
[期刊论文] 作者：赵之雯,刘玉岭,,
来源：河北工业大学学报 年份：2011
通过改变硅烷浓度对微晶硅薄膜材料进行沉积,研究了硅烷浓度与微晶硅晶化率的关系,拉曼光谱的拟合结果表示硅烷浓度越高微晶硅薄膜晶化率越低;研究了不同晶化率的微晶硅薄膜...
[期刊论文] 作者：赵之雯,王爽,李泉,
来源：西部素质教育 年份：2017
为了提高学生的实践操作能力，提升学习主动性，增强创新意识。文章对高级数字系统设计课程及教学进行了改革，提出了采用“教学做合一”教学模式，并从教学内容选择、教学方法、课程......
[期刊论文] 作者：赵之雯,刘玉岭,,
来源：光电子.激光 年份：2011
采用高压高功率(hphP)甚高频等离子体强强化学气相沉积(VHF-PECVD)法对微晶硅(μc-Si:H)进行高速沉积,在最优沉积条件参数下对hphP和低压低功率(lplP)两组样品沉积速率、光电...
[期刊论文] 作者：赵之雯,刘玉岭,,
来源：光电子.激光 年份：2011
实验研究了不同晶化率的微晶硅（μc-Si）薄膜的光衰退现象,提出了制备高稳定性硅薄膜太阳电池材料选取方案。研究结果表明,μc-Si中的非晶硅（a-Si）组分是导致光衰退的主要原因,晶......
[会议论文] 作者：赵之雯,檀柏梅,刘玉岭,
来源：第十三届全国半导体集成电路、硅材料学术会 年份：2003
本文主要分析评述了半导体材料中的硅及其化合物的刻蚀工艺及反应机理,对硅及二氧化硅、氮化硅的不同刻蚀工艺进行了对比分析,并就其发展趋势进行了展望....
[期刊论文] 作者：刘玉岭,檀柏梅,赵之雯,郝子宇,
来源：河北工业大学学报 年份：2004
表面活性剂以其特有的降低表面张力特性、分散悬浮及润湿渗透作用在微电子工业中应用越来越广泛,尤其是在硅材料的切片、磨片、抛光及清洗工艺中的应用已成为减少损伤、缺陷...
[期刊论文] 作者：王娟,檀柏梅,赵之雯,李薇薇,周建伟,
来源：电子工艺技术 年份：2005
本研究对SiO2磨料抛光蓝宝石衬底片进行了研究,结果表明,采用大粒径、高浓度的SiO2磨料抛光可以获得良好的表面状态和较高的去除速率。抛光的适宜的温度及pH值条件为:T=30℃;...
[会议论文] 作者：牛新环,刘玉岭,檀柏梅,王胜利,赵之雯,
来源：第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会 年份：2005
本文利用碱性抛光液对蓝宝石衬底材料进行了化学机械抛光,并对蓝宝石衬底化学机械抛光(简称CMP)的机理及其理论模型进行了深入的研究,完善了蓝宝石CMP抛光速率的半经验公式.根据实验数据,就温度、压力及pH值对CMP抛光速率的影响进行了详细的讨论,得出了这些参数......
[期刊论文] 作者：赵之雯, 牛新环, 檀柏梅, 袁育杰, 刘玉岭,,
来源：微纳电子技术 年份：2006
介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺，阐述了蓝宝石衬底的应用发展前景以及加工工艺中存在的问题，总结了影响CMP工艺的多种因素，并系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数及......
[期刊论文] 作者：张伟,周建伟,刘玉岭,赵之雯,张进,杨玉楼,,
来源：微纳电子技术 年份：2009
氢化非晶硅薄膜（a-Si∶H）是目前重要的光敏材料,而薄膜中的H含量及组态对薄膜的稳定性有着极其重要的影响。介绍了H对薄膜稳定性影响的原理,提出了控制薄膜中的H含量的必要性。......
[会议论文] 作者：张楷亮,刘玉岭,张建新,张元,赵之雯,檀柏梅,
来源：第十三届全国半导体集成电路、硅材料学术会 年份：2003
本文主要分析了半导体硅材料加工工艺:切割、磨片、化学机械抛光、清洗等工序的工艺技术,并对相应的工艺化学品作了研究和应用.研究表明工艺过程中适当增强化学作用可以降低...
[期刊论文] 作者：刘效岩,刘玉岭,梁艳,赵之雯,胡轶,赵东磊,,
来源：功能材料 年份：2010
纳米SiO2是一种性能优越的功能材料,化学机械抛光（CMP）过程的精确控制在很大程度上取决于对纳米SiO2功能的认识。但是目前对碱性纳米SiO2在CMP过程中的功能还没有完全弄清楚,探...
[会议论文] 作者：檀柏梅,刘玉岭,赵之雯,郝子宇,周建伟,王胜利,
来源：2004年全国电子专用化学品高新技术与市场研讨会 年份：2004
FA/O活性剂以其特有的降低表面张力特性、分散悬浮及润湿渗透作用在微电子工业中应用越来越广泛，尤其是在硅材料的切片、磨片、抛光及清洗工艺中的应用已成为减少损伤、缺陷和......
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