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对蓝宝石衬底片的化学机械抛光进行了研究。系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数，通过大量实验总结出了其影响因素并提出了优化方案，结果表明，采用粒径为40nm、低分散度的SiO2溶胶磨料并配合以适当参数进行抛光，可以获得良好的表面状态和较高的去除速率。能够有效提高蓝宝石表面的性能及加工效率。
用于GaN生长的蓝宝石衬底片化学机械抛光工艺研究
【摘 要】
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对蓝宝石衬底片的化学机械抛光进行了研究。系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数，通过大量实验总结出了其影响因素并提出了优化方案，结果表明，采用粒径为40nm、低分散度的
【机 构】
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福建工程学院
【出 处】
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大众科技
【发表日期】
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2007年10期
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