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[期刊论文] 作者：彭良强,
来源：机械工人.冷加工 年份：2004
随着众多消费产品向“轻、薄、短、小”方向的发展,微细加工技术日益成为新产品研发中的最重要组成之一,基于微细加工技术的微型机电系统(MEMS)已经成为众多研究机构和...
[期刊论文] 作者：彭良强,
来源：城市建设理论研究（电子版） 年份：2004
给排水工程施工质量缺陷的存在为为工程的正常使用埋下了极大的隐患，甚至会造成严重的安全事故，因此给排水施工在建筑工程中是非常重要的组成部分，其施工质量将会对整个建筑工程......
[期刊论文] 作者：彭良强,
来源：物理 年份：2002
中国科学院高能物理研究所以北京正负电子对撞机上的同步辐射装置为依托 ,从 2 0世纪 90年代初开始微细加工技术研究 ,主要以ＬＩＧＡ、准ＬＩＧＡ技术为主 .目前实验室具有开展微细加工所必......
[期刊论文] 作者：彭良强,李涛,
来源：自然科学进展：国家重点实验室通讯 年份：1999
研究氨水前处理聚对苯二甲酸乙二酯中潜径迹的影响，实验表明氨水处理显示增大径迹灵敏度，饱和增敏值与氨水温度和浓度无关。分析氨水增敏的原因，认为增敏随离子能损增大而增大，此......
[期刊论文] 作者：巨新,彭良强,
来源：第九届全国原子与分子物理学术会议 年份：1998
该文从原理上计算了在射频离子阱中存储具有介观尺度的重团簇离子的条件，分析了重离子具有的大转动惯量效应，最终，指出了可能采用的离子阱技术。...
[期刊论文] 作者：王耘波,彭良强,
来源：华中理工大学学报 年份：2000
以聚合物核孔膜为模板，利用电化学沉积方法成功制备出α－Ｆｅ纳米线阵列组装膜，通过室温穆斯堡尔谱测量研究α－Ｆｅ纳米线阵列的结构特性，结果表明样品中存在明显的超顺磁颗粒，显示了孔径对......
[期刊论文] 作者：韩勇,彭良强,等,
来源：微纳电子技术 年份：2002
重离子束轰击聚碳酸酯后，对样品进行陈化和紫外线照射敏化，在优化条件下蚀刻后得到纳米孔径核孔膜，利用电化学沉积技术在核孔膜中制备了最小孔径为30纳米的铜纳米线。获得的铜纳......
[期刊论文] 作者：彭良强,徐韬光,等,
来源：微纳电子技术 年份：2002
提出采用掩模法的质子LIGA方法，即利用厚胶光刻产生掩模，然后进行质子束深度刻蚀、显影获得微结构。根据TRIM96程序进行模拟计算，该方法可以获得深度达数毫米、深宽比为30以上的......
[期刊论文] 作者：彭良强,魏成连,
来源：光谱学与光谱分析 年份：1998
采用放射源＾２４１Ａｍ５９．６ｋｅＶγ射线分别激发金属Ｃｒ、Ｃｒ２Ｏ３和Ｋ２ＣｒＯ４，用Ｓｉ（Ｌｉ）谱仪比较测量其Ｋｘ射线的能量。实验表明Ｋ２ＣｒＯ４和ＣｒＫβ能峰相对于金属Ｃｒ有２．１２±０．２７ｅＶ的位移。......
[期刊论文] 作者：彭良强,邹丽芸,
来源：航空制造技术 年份：2002
采用深度光刻与电铸技术相结合的方法 ,较好地解决了大深宽比的电火花工具电极的制造问题。在此基础上 ,利用优化的微细电火花加工工艺 ,实现了大面积微细结构的精细制造Us...
[期刊论文] 作者：彭良强,张院春,等,
来源：电加工与模具 年份：2000
针对微细EDM异形电极的加工难题，提出了利用同步辐射深度光刻和电铸技术相结合制造EDM电极的方法，可望较好地解决异形电极的制造问题。...
[期刊论文] 作者：彭良强,张院春,等,
来源：航空制造技术 年份：2002
采用深度光刻与电铸技术相结合的方法，较好地解决了大深宽比的电火花工具电极的制造问题，在此基础上，利用优化的微细电火花加工工艺，实现了大面积微细结构的精细制造。...
[期刊论文] 作者：陈大鹏,彭良强,等,
来源：核技术 年份：2002
光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术。X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种，具有产业化的应用前景。掩模技术是X射线光刻技术的难点，本文报告了国内利用同步......
[期刊论文] 作者：彭良强,张院春,等,
来源：微细加工技术 年份：2002
通过LIGA技术与微细电火花技术相结合，可以在硬质合金、不锈钢等材料上加工出微结构，这一新的方法必将拓宽微细加工的能力和应用范围。利用LIGA技术制备线宽70μm、厚度达730μ...
[期刊论文] 作者：彭良强,伊福廷,张院春,,
来源：城市道桥与防洪 年份：2000
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生、测量监控等方面人手,介绍了S226海滨大桥...
[期刊论文] 作者：伊福廷,彭良强,张菊芳,韩勇,
来源：微特电机 年份：2001
文章概述了超微步进电机的原理设计、结构设计、加工方法以及该电机的扫描电镜照片等。该电机的转子和定子由LIGA技术制造完成，线圈由手工在显微镜下绕制完成，转子直径2mm，整个......
[期刊论文] 作者：伊福廷,张菊芳,彭良强,韩勇,
来源：中国微米/纳米第六届学术年会 年份：2003
SU8光刻胶优异的性能在MEMS技术的发展重得到了广泛的应用,已经成为MEMS研究中必不可少的方法之一.SU8光刻胶能够进行厚度达毫米的结构研究工作,另一方面SU8结构具有很好的侧...
[期刊论文] 作者：彭良强，伊福廷，韩勇，张菊芳,
来源：黑龙江科技信息 年份：2001
本文通过对荣华二采区10...
[期刊论文] 作者：王耘波,周文利,于军,彭良强,
来源：华中理工大学学报 年份：2000
以聚合物核孔膜为模板 ,利用电化学沉积方法成功地制备出α Fe纳米线阵列组装膜 .通过室温穆斯堡尔谱测量研究α Fe纳米线阵列的结构特性 ,结果表明样品中存在明显的超顺磁颗...
[会议论文] 作者：彭良强,伊福廷,张菊芳,韩勇,
来源：第四届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2000
本文介绍了制备X射线深度曝光掩膜的新方法.该方法采用Microlithography公司的SU8胶(厚约20微米),只需一次紫外曝光/电镀就得到所需掩模.该方法无需昂贵的电子束扫描装置等,...
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