搜索筛选:
搜索耗时0.4473秒,为你在为你在102,267,441篇论文里面共找到 15 篇相符的论文内容
类      型:
[期刊论文] 作者:彭瑞伍,任尧成, 来源:科学通报 年份:1982
一、引言最近由于溴化物熔盐可能成为制备、精炼,再生难熔金属和研究熔盐本性的熔体,因此已有溴化物熔盐的工作发表,金属钛在氯化物熔盐中的电化学研究范围较广,而溴化物熔...
[期刊论文] 作者:陈建新,李爱珍,任尧成, 来源:物理学报 年份:1998
赝配InGaAs/InAlAs调制掺杂异质结构可以获得很高的电子气面密度和电子迁移率,从而可以制成具有优越高频和低噪声特性的高电子迁移率晶体管(HEMT).文中报道InGaAs/InAlAs调制掺杂异质结构低温下纵向和横向磁阻随......
[期刊论文] 作者:陈建新,李爱珍,齐鸣,任尧成, 来源:功能材料与器件学报 年份:1996
本文用GSMBE技术生长纯度GaAs和δ-掺杂GaAs/Al_xGa_(1-x)As结构二维电子气材料并对其电学性能进行了研究。对于纯度GaAs的GSMBE生长和研究,在低掺Si时,载流子浓度为2×10~(14)cm~(-3),77K时的迁移率可达84,000cm~2/V.s。对于用GSMBE技术生长的δ-掺杂GaAs/Al_xGa_(1-x)As二......
[会议论文] 作者:任尧成,李伟,李存才,李爱珍, 来源:第六届全国分子束外延学术会议 年份:2001
用多种生长方法相结合的方法来降低GaN基材料与异质衬底之间的大失配问题,是提高材料质量的重要方法.本文介绍了原膜GaN衬底上的GaN生长方法,并用双晶X射线衍射仪及紫外一可...
[期刊论文] 作者:余庆选,彭瑞伍,励翠云,任尧成,, 来源:Rare Metals 年份:1993
The ternary semiconductor Ga0.5In0.5Pmay be used in optoelectronics andmicrowave devices to overcome the problemssuch as the formations of...
[会议论文] 作者:陈建新,李爱珍,杨全魁,任尧成, 来源:第五届全国分子束外延学术会议 年份:1999
[期刊论文] 作者:韦光宇,彭瑞伍,任尧成,丁永庆,, 来源:Rare Metals 年份:1993
GaSb epilayers were grown on GaAs and/or GaSb substrates by MOCVD respectively.The influenceof growth conditions on the properties of the epilayers was studied...
[期刊论文] 作者:张永刚,陈建新,任尧成,李爱珍, 来源:功能材料与器件学报 年份:1995
采用GSMBE方法及典型的器件工艺制成了用InAlAs作为肖特基势垒增强材料的高性能InAlAs/InGaAs/InP MSM光电探测器。用自制的测试系统对器件的直流和瞬态特性进行了测试,测试结果表明,器件的击穿电压大于30V,在10V偏压......
[期刊论文] 作者:韦光宇,彭瑞伍,丁永庆,任尧成, 来源:稀有金属:英文版 年份:1993
The GalnAsSb quaternary alloys for 2~4 μm long wavelength optoelectronics have been prepared byMOCVD.The growth of buffer layers and the employment of GaSb/GaAs...
[期刊论文] 作者:韦光宇,彭瑞伍,丁永庆,任尧成,, 来源:Rare Metals 年份:1993
The GalnAsSb quaternary alloys for 2~4 μm long wavelength optoelectronics have been prepared byMOCVD.The growth of buffer layers and the employment of GaSb/GaA...
[期刊论文] 作者:施惠英,余海生,任尧成,蒋玉兰,孙秋霞,胡建, 来源:稀有金属 年份:2004
本文研究了 LPE GaAs 生长条件对外延层补偿度的影响。根据实验结果,指出衬底表面受热缺砷是形成 Si_(As)受主的原因。This paper studies the influence of LPE GaAs grow...
[期刊论文] 作者:齐鸣,李爱珍,任尧成,陈建新,张永刚,李存才, 来源:功能材料与器件学报 年份:1995
本文研究了InGaP/GaAs异质结构的气态源分子束外延(GSMBE)生长,所得样品晶格失配率△α/α<8.95×10 ̄(-5),本底载流子浓度为10 ̄(15)cm ̄(-3)数量级,掺硅n型样品的载流子浓度控制范围可达2×10 ̄(15)~4×10 ̄(18)cm ̄(-3)。研究了P_2和As_2气氛的切换条件对InGaP/GaAs异质结构......
[期刊论文] 作者:施惠英,余海生,李连生,任尧成,江玲娣,孙清,邹元爔, 来源:半导体技术 年份:1979
本文报导用石墨舟液相外延纯度砷化镓材料的电学性质。在氢中含氧量为0.12×10~(-6)的条件下,获得的较好生长层的电学参数为μ_(77)~K=9.41×10~4~1.22×10~5厘米~2/伏·秒,n_...
[会议论文] 作者:中国科学院上海冶金研究所,张永刚,李全魁,任尧成,李爱珍,陈建新, 来源:第五届全国分子束外延学术会议 年份:1999
[会议论文] 作者:张永刚,李全魁,任尧成,李爱珍,陈建新,中国科学院上海冶金研究所, 来源:第五届全国分子束外延学术会议 年份:1999
相关搜索: