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编者按:上海市科学技术委员会与AM(应用材料)在上海国际会议中心联合主办的"上海集成电路技术创新论坛"上,就集成电路布图设计的知识产权保护问题专家做了介绍.本刊征得作者同意转载于此,同时全文刊载了国务院制定的<集成电路布图设计保护条例>,供业内有关人士参考.
知识产权保护的新课题
【摘 要】
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编者按:上海市科学技术委员会与AM(应用材料)在上海国际会议中心联合主办的"上海集成电路技术创新论坛"上,就集成电路布图设计的知识产权保护问题专家做了介绍.本刊征得作者
【机 构】
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中国上海第一中级人民法院民五庭
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2002年1期
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