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报道了对Tm,Ho双掺YVO4晶体光谱性能的测量结果,包括用用UV-365型分光光度计测出单掺Tm:YVO4及Ho:YVO4吸收谱以及双掺Tm:Ho:YVO4的吸收谱;用Ar离子激光器488nm,LD激光器激发测量样品荧光光谱;用J-O理论进行光谱参数计算及对能级结构进行分析;研究了在λ=805nm的激光二极管激发下Tm对Ho的敏化发光过程。发现与YAG,YLF为基质的Tm,Ho双掺材料相比,该材料中的Tm^3+离子具有大而均匀的吸收宽度(-26nm),大的峰位吸收截面和积分吸收截面(-1.4×