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介绍了半导体圆片存在的各种污染杂质的类型和去除方法,并概要总结了半导体圆片的清洗技术,对半导体圆片的湿法和干法清洗特点和去除效果进行了比较分析。
半导体晶圆的污染杂质及清洗技术
【摘 要】
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介绍了半导体圆片存在的各种污染杂质的类型和去除方法,并概要总结了半导体圆片的清洗技术,对半导体圆片的湿法和干法清洗特点和去除效果进行了比较分析。
【机 构】
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中国电子科技集团公司第十三研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2014年07期
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