【摘 要】
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采用射频磁控溅射制备了不同Ta含量的Cr-Ta-N薄膜,利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、纳米压痕仪、摩擦磨损仪和三维形貌仪等设备对薄膜的成分、微观
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(51574131)；国家自然科学基金资助项目(51374115)
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采用射频磁控溅射制备了不同Ta含量的Cr-Ta-N薄膜,利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、纳米压痕仪、摩擦磨损仪和三维形貌仪等设备对薄膜的成分、微观结构、力学和室温摩擦磨损性能进行表征．结果表明,Cr-Ta-N薄膜呈面心立方(fcc)结构,为Ta固溶在CrN晶格中的置换固溶体．随着Ta含量的升高,Cr-Ta-N薄膜的硬度先逐渐升高后基本趋于稳定．当Ta质量百分含量增加到1.74％时,Cr-Ta-N复合膜的硬度最大,达到31.9GPa．在室温条件下,Cr-Ta-N薄膜的
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