论文部分内容阅读
研究了单层Ge-Sb-Te-O射频溅射薄膜在400nm～800nm区域的光学常数(N,K)和反射、透射光谱,发现适当的氧掺杂能增加退火前后反射率对比度,可以通过氧掺杂改良Ge-Sb-Te相变材料的光存储性能.
Ge-Sb-Te-O相变薄膜的光学性质研究
【摘 要】
：
研究了单层Ge-Sb-Te-O射频溅射薄膜在400nm～800nm区域的光学常数(N,K)和反射、透射光谱,发现适当的氧掺杂能增加退火前后反射率对比度,可以通过氧掺杂改良Ge-Sb-Te相变材料的
【机 构】
：
中国科学院上海光学精密机械研究所(上海)
【出 处】
：
第十一届全国薄膜学术交流会
【发表日期】
：
2001年11期
其他文献
话说第四十五回,赤壁之战的前夕,在东吴文官武将的一次宴会上,周瑜说:“今日此会可名群英会.”此后“群英会”一词泛指英雄模范人物的集会.另外,也指各类才华出众曲能人的集
中央电视台使用索尼专业光盘系统转播雅典奥运会/索尼XDCAM与新奥特系列产品实现无缝集成/索尼4K数字电影放映机打造高清新世界/XDCAM专业光盘系统取得优秀销售业绩/索尼DV全方案亮相BIRTV20
介绍了利用计算机对光学薄膜淀积过程进行仿真,编写了基于Matlab的计算机仿真程序.对采用反射率极值法监控的镀膜系统的薄膜淀积结果以及薄膜淀积过程中监控片透射率的实时变