制备条件对硅纳米孔柱阵列表面硅柱密度调制

来源 :科学技术与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhonghuiling2009
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采用水热技术制备的硅纳米孔柱阵列(Si—NPA)是一种具有规则层次结构的硅微米/纳米结构复合体系,具有广谱光吸收和光致发光特性。针对由HF和Fe(NO3)3组成的水热腐蚀溶液体系,研究了溶液组分浓度、腐蚀温度等制备条件对Si—NPA表面硅柱密度及其光致发光性能(PL)的调制作用。结果表明,当蒋蚀温度、HF(或Fe^3+)浓度固定而变化Fe^3+(或HF)浓度时,硅柱面密度随HF(或Fe^3+)浓度的增加呈指数减小趋势,但样品的PL峰位保持不变;当溶液中Fe^3+,HF浓度固定时,硅柱面密度随腐蚀温度的升高
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