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从钽膜质量的角度研究了用溅射方法在硅衬底上得到的60 nm钽膜对铜硅互扩散的阻挡效果,钽膜的质量通过对硅衬底的表面处理以及钽膜的淀积速率来控制.研究发现,适当的硅衬底表面处理对钽膜是否能产生良好的防扩散能力起着
铜布线工艺中阻挡层钽膜的研究
【摘 要】
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从钽膜质量的角度研究了用溅射方法在硅衬底上得到的60 nm钽膜对铜硅互扩散的阻挡效果,钽膜的质量通过对硅衬底的表面处理以及钽膜的淀积速率来控制.研究发现,适当的硅衬底表
【机 构】
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复旦大学材料科学系
【出 处】
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固体电子学研究与进展
【发表日期】
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2002年1期
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