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半导体生产对掩蔽层有强烈的依赖关系。因为在许多步骤中，掩蔽层对其下层结构有保护作用。大家熟悉的光刻软质膜基本是由有机材料组成的。至于硬质掩蔽层，象局部氧化用（ＬＯＣＯＳ）ＳｉＮ层，是无机的，它可承受更加恶劣的工艺环境，样，它们要求用专用的去除技术，本文讨论了湿法和干法硬质掩蔽层的去除方法。
半导体生产中硬质掩蔽层（SiN,SiN／Poly）的去除
【摘 要】
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半导体生产对掩蔽层有强烈的依赖关系。因为在许多步骤中，掩蔽层对其下层结构有保护作用。大家熟悉的光刻软质膜基本是由有机材料组成的。至于硬质掩蔽层，象局部氧化用（ＬＯＣＯＳ）ＳｉＮ层，是无机
【出 处】
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微电子技术
【发表日期】
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1995年6期
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