【摘 要】
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一、引言随着大规模集成电路(LSI)向着超大规模集成电路(VLSI)发展,即要求每一基片上集成十万个元件以上、一万门电路以上,对图象的精度提出了更高的要求,例如VLSI图象的分
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一、引言随着大规模集成电路(LSI)向着超大规模集成电路(VLSI)发展,即要求每一基片上集成十万个元件以上、一万门电路以上,对图象的精度提出了更高的要求,例如VLSI图象的分辨率要求达到0.1～0.01μm。可见,精细电子化学品如光致抗蚀剂同电子技术的结合,已经刻不容缓。
I. INTRODUCTION With the development of large-scale integrated circuits (VLSIs) towards VLSIs, which require that more than 100,000 elements and more than 10,000 circuits be integrated into each substrate, the accuracy of the images is raised For example, the resolution of VLSI images is required to reach 0.1 ~ 0.01μm. It can be seen that the combination of fine electronic chemicals, such as photoresist and electronic technology, has become urgent.
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