【摘 要】
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以KCl、KBr、KI、KNO3为支持电解质,在pH值为1.5~3.0范围内,设计两种模型,研究了Cu(Ⅱ)与水溶性中位-四(4-N-氰乙基吡啶基)卟啉(TγNPNPYP)的反应动力学,利用计算机线性回归
【机 构】
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湖北大学化学化工学院,湖北大学化学化工学院,湖北大学化学化工学院,湖北大学化学化工学院 湖北武汉430062,武汉科技大学材料与冶金学院,湖北武汉430081,湖北武汉430062,湖北武汉43006
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以KCl、KBr、KI、KNO3为支持电解质,在pH值为1.5~3.0范围内,设计两种模型,研究了Cu(Ⅱ)与水溶性中位-四(4-N-氰乙基吡啶基)卟啉(TγNPNPYP)的反应动力学,利用计算机线性回归拟合,得出了其表观速率常数的一般表达式。研究表明,Cu(Ⅱ)与TγNPNPYP嵌入反应速率顺序为KCl介质>KBr介质>KI介质>KNO3介质,这与Cu(Ⅱ)和Cl-、Br-、I-、NO-3形成配合物时的稳定性是一致的,表明平衡阴离子也参与了配位。
KCl, KBr, KI, KNO3 as supporting electrolytes, two models were designed in the range of pH value of 1.5 ~ 3.0. The effects of Cu (Ⅱ) and water- ) Porphyrin (TγNPNPYP) reaction kinetics, the use of computer linear regression fitting, the general expression of the apparent rate constant. The results show that the embedding reaction rates of Cu (Ⅱ) and TγNPNPYP are KCl media> KBr media> KI media> KNO3 media, which is in good agreement with Cu (Ⅱ) and Cl-, Br-, I- and NO-3 The stability is consistent, indicating that the counter anion is also involved in the coordination.
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