高纯氧化铌中钨、钼直接光谱分析法

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<正> 铌是在核反应堆、电子工业和航空工业等中有重大应用价值的金属之一.对其中的痕量杂质,常用光谱分析来完成.分析一般常见元素多用“载体分馏法”,分析下限一般在1×10-3%,较好的可达n×10-4%.而对其中钨、钼分析,其灵敏度较差,分析下限为1×10-2~n×10-3%.只有在某些特定方法中,钨的测定下限可达0.001%.有些作者采用水冷电极,气氛控制和采用高电流电弧激发.但总的来讲对铌中钨、钼分析灵敏度还是不够的.
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