【摘 要】
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N-Well BiCMOS[B]技术能够实现双极型与CMOS元器件兼容的工艺。为了便于集成,采用双极型制程为基础,引入CMOS元器件工艺,在同一硅衬底上实现兼容的Bi CMOS[B]工艺。采用Bi CM
【机 构】
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上海贝岭股份有限公司,中国航天电子技术研究院第七七一研究所,
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N-Well BiCMOS[B]技术能够实现双极型与CMOS元器件兼容的工艺。为了便于集成,采用双极型制程为基础,引入CMOS元器件工艺,在同一硅衬底上实现兼容的Bi CMOS[B]工艺。采用Bi CMOS[B]集成电路芯片结构设计、工艺与制造技术,依该技术得到了芯片制程结构。
N-Well BiCMOS [B] technology enables a bipolar CMOS process compatible components. In order to facilitate integration, based on the bipolar process, a CMOS component process is introduced to implement a compatible Bi CMOS [B] process on the same silicon substrate. Using Bi CMOS [B] integrated circuit chip structure design, process and manufacturing technology, according to the technology has been the chip process structure.
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