【摘 要】
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随着科学技术的迅猛发展以及各行业要求的不断提升,薄膜类Al2O3开始受到瞩目,其需求不断增长。选择价廉易得的无机盐Al Cl3为铝前驱体,利用其与水共同作用通过ALD技术沉积制
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随着科学技术的迅猛发展以及各行业要求的不断提升,薄膜类Al2O3开始受到瞩目,其需求不断增长。选择价廉易得的无机盐Al Cl3为铝前驱体,利用其与水共同作用通过ALD技术沉积制备得到的Al2O3薄膜。该方法沉积温度范围广,在50~400℃均能得到致密均一的薄膜（通过SEM表征）,相应的沉积速率为0.03~0.11 nm/次,能够满足各种不同工艺需求。通过XPS对薄膜成分进行分析,经过刻蚀之后,各沉积温度下Al与O的原子百分数之比为2：（2.89~3.2）,与Al2O3十分吻合。所得薄膜杂质总含量小,最低可
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