超高真空中SrTiO3薄膜同质外延生长的过程研究

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wo6857953

【摘要】

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在超高真空下利用激光分子束外延(LMBE)方法基于SrTiO3(100)单晶基片同质外延SrTiO3薄膜.通过反射式高能电子衍射(RHEED)对生长过程进行原位监测,发现对基片的预热处理明显有

【作者】

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李金隆张鹰邓新武刘兴钊陶伯万李言荣

【机构】

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电子科技大学微电子与固体电子学院

【出处】

：

真空科学与技术学报

【发表日期】

：

2004年1期

【关键词】

：

超高真空 SRTIO3薄膜同质外延生长激光分子束外延法 LMBE 反射式高能电子衍射铁电薄膜 UHV SrTiO 3 Homoepitaxy RHEED

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在超高真空下利用激光分子束外延(LMBE)方法基于SrTiO3(100)单晶基片同质外延SrTiO3薄膜.通过反射式高能电子衍射(RHEED)对生长过程进行原位监测,发现对基片的预热处理明显有利于改善其晶面结构,当在其上同质外延SrTiO3薄膜时,容易实现单晶层状生长模式,并得到原子级平整度的铁电薄膜.

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