【摘 要】
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采用减压化学气相沉积方法,依靠纯N2稀释的SiH4气体的热分解反应,在玻璃表面生长了纳米硅镶嵌的复合薄膜.实验研究了退火前后薄膜样品的结晶状态和光致发光特性.结果表明,未
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采用减压化学气相沉积方法,依靠纯N2稀释的SiH4气体的热分解反应,在玻璃表面生长了纳米硅镶嵌的复合薄膜.实验研究了退火前后薄膜样品的结晶状态和光致发光特性.结果表明,未退火样品的光致发光特性随沉积温度升高反而减弱.当退火温度＞600℃时,晶化趋势明显;当退火温度＜600℃时,对晶化的影响不显著,但提高退火温度或延长退火时间可以增加光致发光谱(PL)强度.通过HRTEM分析证实了薄膜为纳米硅镶嵌复合的特殊结构.并通过Raman、PL、HRTEM的比较分析,认为在退火前后分别有两种不同的发光机制起主导作用.
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