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本文采用ＸＰＳ配合Ａｒ＋离子原位刻蚀研究了用射频磁控溅射法制备Ｔｉ／Ａｌ２Ｏ３（０００１），Ｔｉ／Ａｌ２Ｏ３（多晶）和Ｔｉ／ＭｇＯ（００１）体系的界面结构。结果表明，在Ｔｉ／Ａｌ２Ｏ３体系的界面处存在Ａｌ３＋的还原态和Ｔｉ的氧化态，且在刻蚀过程中，Ａｌ３＋的还原态出现在Ｔｉ的氧化态之前。用相同方法制备的Ｔｉ／ＭｇＯ界面没有产生类似的界面反应。