In掺杂对CdMnTe晶体性能的影响

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采用垂直Bridgman法生长了In掺杂Cd0.3Mn0.2Te晶体(CdMnTe:In)和本征的Cd0.8Mn0.2Te晶体(CdMnTe)。X射线粉末衍射、X射线双晶摇摆曲线和位错密度测试表明,所生长晶体均为立方闪锌矿结构,半峰宽为40~80arc Sec,位错密度为100~100cm^-2,结晶质量良好.In掺杂不影响晶体的结构和结晶质量。电流.电压(I-V)测试表明,CdMnTe:In晶体的电阻率为1~3×10^9Ω·cm,与CdMnTe晶体相比上升了3个数量级.近红外光透过光
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