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以光子晶体Fabry-Perot腔为例，提出了全电子束光刻制作光子晶体波导器件的解决方案．曝光光子晶体区域时采用较小的曝光步长，同时引入额外的邻近效应补偿本征邻近效应，从而获得高质量的掩模图形．曝光较长的输入、输出波导时，采用较大的曝光步长以提高电子束扫描速度，同时在波导的写场（write-field）过渡区引入一个锥形波导以减小写场拼接误差对光传输效率的影响．实验结果证明，这种方法既能保持小孔制作需要的高精度，也能很大程度上提高光刻效率．