纳米硅薄膜的镜反射红外光谱研究

来源 :理化检验：物理分册 | 被引量 : 0次 | 上传用户：tanscuc2

【摘要】

：

研究探讨了镜反射红外光谱在纳米材料方面的应用.通过等离子化学气相沉积法(PECVD),制备本征和掺磷的纳米硅薄膜(nc-Si:H),利用镜反射红外光谱研究了本征和掺磷的纳米硅薄膜

【作者】

：

赵涛张毅陈英颖吴则嘉刘晓晗杨晟远张林

【机构】

：

上海宝钢股份有限公司分析测试中心,上海维安新材料研究中心有限公司

【出处】

：

理化检验：物理分册

【发表日期】

：

2005年2期

【关键词】

：

镜反射纳米硅薄膜衬底温度直流电压掺杂浓度本征掺杂 Specular reflection Nano-crystalline silicon fil

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研究探讨了镜反射红外光谱在纳米材料方面的应用.通过等离子化学气相沉积法(PECVD),制备本征和掺磷的纳米硅薄膜(nc-Si:H),利用镜反射红外光谱研究了本征和掺磷的纳米硅薄膜的光谱特征.通过实验,发现这两种薄膜中都存在多氢键合方式,PECVD工艺参数如衬底温度、直流电压和掺杂浓度对薄膜结构具有一定的影响.

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