溶液中镓与卤离子的配位作用

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用静态离子交换法研究了在HClO_4的酸性介质中,离子强度μ=0.5和25℃下Ga(Ⅲ)-HCl、Ga(Ⅲ)-HBr和Ga(Ⅲ)-HI三体系的配位作用。实验表明,在本研究的条件下,镓与Cl~-、Br~-、和I~-均生成了组成为1:1、1:2和1:3的配合物。用S.Fronaeus法和J.Schubert法求出的各配合物的稳定常数极为一致。根据它们的稳定常数和GaF_3配离子的稳定常数可知,镓是S.Ahrland分类中的A类配合物形成体,即其卤素配合物稳定性的顺序为F~->Cl~->Br~->I~-。本文还给出了上述三个体系中镓配离子的分布图。 The coordination interactions of Ga (Ⅲ) -HCl, Ga (Ⅲ) -HBr and Ga (Ⅲ) -HI three systems at ionic strength μ = 0.5 and 25 ℃ were studied by static ion exchange method in HClO_4 acid medium. Experiments show that under the conditions of this study, gallium and Cl ~ -, Br ~ -, and I ~ have the composition of 1: 1, 1: 2 and 1: 3 complexes. The stability constants of each complex obtained by the S.Fronaeus method and the J.Schubert method are in good agreement. According to their stability constants and the stability constants of GaF_3 complex ions, gallium is a type A complex formation in S.Ahrland classification, that is, the order of stability of the halogen complex is F ~ -> Cl ~ -> Br ~ > I ~ -. This article also gives the distribution of gallium ion in the above three systems.
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