高Tc超导薄膜沉积的不同溅射方法

来源 :国外金属热处理 | 被引量 : 0次 | 上传用户:youqianlowa
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<正> 用陶瓷和合金靶磁控管溅射的高Tc超导薄膜的沉积受到在靶的表面产生和加速的高能氧粒子轰击的强烈影响。在这篇论文中,我们研究了不同溅射方法对克服这些高能粒子在沉积膜成分上的干挠效果。1 引言 世界范围在高Tc超导材料方面的认真研究对于在微电子和微波装备中的外延薄膜的初次应用现在已达到相当的水平。对于这些装备应用所必须达到的高质量膜能用所有重要的沉积方法的技术来获得,诸如溅射,蒸发,LPVD以及CVD。
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