论文部分内容阅读
选取无硼（NaCl-KCl-NaF—SiO2）和含硼（NaCl—KCl-NaF-SiO2-Na2B4O7）两种熔盐通过电沉积的方法在纯铁表面制备了渗硅层。利用辉光放电光谱仪、扫描电镜（SEM）和X射线衍射仪（XRD）对渗硅层渗入元素的含量与分布、表面形貌及物相组成进行了检测分析。结果表明，硼的加入起到了明显的催渗作用，含硼试样渗层较厚，硅分布均匀；表面平整、致密，晶粒细小；含硼试样由Fe2B及Fe3Si组成，无硼试样由Fe3Si及Si在α—Fe中的固溶体α—Fe（Si）组成，硼的加入降低了Fe3Si的有序