光刻技术与光刻机

来源 :中国集成电路 | 被引量 : 0次 | 上传用户：iamwoceo

【摘要】

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一、简介rn光刻技术(Lithgraphy)被广泛运用于当今半导体制程中.光刻技术可以用近紫外光(Near UltraViolet,NUV)、中紫外光(Mid UV,MUV)、深紫外光(Deep UV,DUV)、真空紫外光

【机构】

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SMICFab1 Litho EE1

【出处】

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中国集成电路

【发表日期】

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2004年8期

【关键词】

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光刻技术真空紫外光深紫外光近紫外光波长范围光刻胶照射运用体制光源半导

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一、简介rn光刻技术(Lithgraphy)被广泛运用于当今半导体制程中.光刻技术可以用近紫外光(Near UltraViolet,NUV)、中紫外光(Mid UV,MUV)、深紫外光(Deep UV,DUV)、真空紫外光(Vacuum UV,VUV)、极短紫外光(Extreme UV,EUV)、X-光(X-Ray)等光源对光刻胶进行照射.相关波长范围如图1所示.rn

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