用等离子体技术制备凹印版材耐磨层

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用电镀法制备凹印版材存在环境污染严重、成本高等缺点,为此研究用等离子体表面镀膜层替代电镀法制备凹印版材的新工艺.利用等离子体磁控溅射、多弧离子镀和离子束辅助沉积技术在镍基表面制备了硬质铬薄膜.研究表明,本法制备的薄膜表面致密均匀,中间有过渡层的离子束辅助沉积层表面显微硬度为800~1100 HV,磁控溅射的为300~400 HV,多弧离子镀的为600~800 HV,多弧离子镀和离子束辅助沉积层表面显微硬度接近于电镀法(700~1 100 HV).划痕试验表明,制备的薄膜与基体结合力均在5 N左右,凹版电子
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