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应用射频磁控溅射法制备了Fe-Ta-N薄膜，系统地研究了制备工艺对Fe-Ta-N薄膜结构和软磁性能的影响。首先，制备了不同钽含量的薄膜，发现（Fe89.5Ta10.5）-N薄膜具有很好的软磁性能，氮分压P（N２）＝5％时，矫顽力获得最小值，Hｃ＝14A／m。此时，样品呈现纳米晶结构，晶粒尺寸D≤10－8m。并且，钽掺杂能抑制铁氮化合物的生成，使薄膜在高氮分压范围内具有高的饱和磁化强度，Mｓ＝1242kA／m。其次，考察了热处理对（Fe89.5Ta10.5）-N薄膜结构和磁性能的影响。P（N２）＝5％时，沉