【摘 要】
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采用脉冲直流磁控溅射法,在不同的基片温度下制备金属钨薄膜,并对薄膜的反射光谱、电学性能、晶体结构、表面形貌等进行了分析.结果表明,在300℃基片温度下获得完全热力学稳定的体心立方α-W金属膜,并具有(110)晶面择优取向,薄膜电阻率为22μΩ?cm,500℃发射率低于0.07.通过薄膜沉积过程中基片加热的方法,在较小的薄膜厚度,即150 nm以下,将亚稳相β-W全部转变为稳定相BBCα-W,适合中高温太阳光谱选择性吸收涂层中红外反射层的规模化制备;不同晶体结构W做红外反射层的吸热膜膜系大气环境400℃热稳
【机 构】
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中国建筑材料科学研究总院有限公司绿色建筑材料国家重点实验室,北京 100024;太阳能与建筑节能玻璃材料加工技术北京市重点实验室,北京 100024
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采用脉冲直流磁控溅射法,在不同的基片温度下制备金属钨薄膜,并对薄膜的反射光谱、电学性能、晶体结构、表面形貌等进行了分析.结果表明,在300℃基片温度下获得完全热力学稳定的体心立方α-W金属膜,并具有(110)晶面择优取向,薄膜电阻率为22μΩ?cm,500℃发射率低于0.07.通过薄膜沉积过程中基片加热的方法,在较小的薄膜厚度,即150 nm以下,将亚稳相β-W全部转变为稳定相BBCα-W,适合中高温太阳光谱选择性吸收涂层中红外反射层的规模化制备;不同晶体结构W做红外反射层的吸热膜膜系大气环境400℃热稳定性测试进一步证实了α-W膜做红外反射层显著提高吸热膜膜系热稳定性.
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