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研究了Pd在氢终止的P型单晶硅（100）表面的自催化化学沉积（AED）．在室温下将刻蚀过的硅片浸入常规的HF—PdCh—HCl溶液制备了Pd膜．将沉积了Pd的基底作为工作电极，用循环伏安法（CV）、原子力显微镜（AFM）和X射线光电子能谱（XPS）研究了Pd膜的阳极溶出行为和形貌．结果表明，Pd的生长遵循Volmer-Weber（VW）生长模式，Pd膜给出了很好的支持．