多晶硅还原炉进气中添加SiCl4、SiH2Cl2工艺进展

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多晶硅产能近几年迅速扩张,副产物四氯化硅(SiCl4,简写STC)和二氯二氢硅(SiH2Cl2,简写DCS)随之迅速增加。出于环境保护和生产经济性考虑,需对STC和DCS进行回收处理。对于STC的处理,冷氢化工艺应用日益广泛;同时,在还原炉进气中添加STC的研究也展示了良好前景。对于二氯二氢硅的处理,研究普遍采用反歧化法,使DCS和STC反应,生成三氯氢硅(SiHCl3,简写TCS),重新进入还原生产,循环利用。从国内外相关技术研究看,可以在还原炉进气中适量添加STC或DCS,使STC或DCS转化成TCS,从而充分利用物料,降低回收处理系统负荷,达到节能降耗环保安全的目的。
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