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采用多靶轮流溅射技术，用Ｔｉ和六方氮化硼反应合成了Ｔｉ－Ｂ－Ｎ薄膜，采用ＸＲＤ，ＴＥＭ和显微硬度计研究了薄膜的的微结构及其力学性能。结果表明，室温下沉积的Ｔｉ－Ｂ－Ｎ薄膜为非晶体的Ｔｉ（Ｎ，Ｂ）化合物，其硬度达到ＨＫ２４７０，高温下沉积的薄膜为ＴｉＮ结构类型的Ｔｉ（Ｎ，Ｂ）晶体，薄膜在晶化后硬度略有降低。