【摘 要】
：
长期以来,人们对于硅片在经过HF湿法处理之后出现的水印早已有所认识,尤其是图形包含亲水和疏水层时最为明显.我们系统地研究了经过HF后道处理之缺陷形成的机理,并确认了与先
【机 构】
：
Tokyo Electron Limited 3-6 Akasaka 5-ehome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 JAPANTokyo Electron AT Limited
论文部分内容阅读
长期以来,人们对于硅片在经过HF湿法处理之后出现的水印早已有所认识,尤其是图形包含亲水和疏水层时最为明显.我们系统地研究了经过HF后道处理之缺陷形成的机理,并确认了与先前报道的水印截然不同的缺陷类型.根据X射线和其它分析表明,认为这些缺陷与周围环境残余的汽相HF和随后的晶圆表面反应有关.根据反应腔室HF浓度的不同可以产生不同类型的缺陷.由于水印是由硅在水中的氧化和随后产生的氧化物的分解形成的,少量的HF具有加速这个过程的效果.形成不同缺陷的条件,还有避免这些缺陷的策略均得以认定.正确的排空管理是一个关键的因素.最后发现,重参杂的硅更易产生缺陷.
其他文献
八氯二丙醚(Octachlorod ipropyl ether,S2,S421),化学名为2,3,3,3,2,′3,′3,′3′-八氯二丙醚,其结构式为CC l3—CHC l—CH2—O—CH2—CHC l—CC l3,分子量为377·0,比重为
《哈克贝利·芬历险记》的狂欢化叙事特征表现在体裁的狂欢化和人物的狂欢化。小说明显表现出梅尼普体特征，渗透了狂欢式的世界感受，即交替与变更的精神、死亡与新生的精神。《
对于很多人来说，梦想总是遥不可及的。而在这一点上，Zhou无疑是幸运的。从正式成为职业选手开始，这位优秀的Carry先后获得了27个大大小小赛事的冠军。而在这其中，更是包括了举世瞩目的TI冠军。从最初的全国冠军，到之后的世界冠军，Zhou的梦想一个一个全部得到了实现。对他而言，他已经将梦想做到了巅峰。 2014年2月10日，这位在DotA圈摸爬滚打长达5年之久的老将做出了最后的选择。随着年龄的增
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生、测量监控等方面人手,介绍了S226海滨大桥
一种成功的抗蚀剂和刻蚀残渣去除胶机必须满足大批量IC制造环境中可接受的3个条件:(1)与灵敏低K介质材料的兼容性;(2)去除抗蚀剂和刻蚀残渣;(3)与基质金属包括铜、钴、钨等金
铜化学机械平面化不同阻挡层浆料的应用引起了铜CMP后清洗的问题.阻挡层浆料的差异包含但不限于pH、研磨剂粒子材料和尺寸及铜腐蚀的抑制剂.为观察阻挡层浆料对清洗工艺的影
请下载后查看，本文暂不支持在线获取查看简介。
Please download to view, this article does not support online access to view profile.
名词短语的核心是名词，修饰成分位于核心名词的前后。定语是名词短语复杂化的主要原因。本文将定语分为修饰性定语和限定性定语两类，取定语的广义解读，将冠词，指示词和数词归入限