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低温形成栅介质膜电特性的容—压法分析
低温形成栅介质膜电特性的容—压法分析
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:m987987
【摘 要】
:
采用准静态C-V特性和高频C-V特性测试技术,结合温偏(B-T)实验,测试了等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)法低温制备的富氮的SiOxNy栅介质膜的电学特性(界面态密度、固定电荷密度、介电常数、可动离子密度),结
【作 者】
:
章晓文
王锋
【机 构】
:
华南理工大学应用物理系,广东省电子技术学校
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
1998年4期
【关键词】
:
等离子体增强
化学汽相沉积
PECVD
硅化物
PlasmaEnhancedChemical vapor depositionInterface state
【基金项目】
:
国家自然科学基金,广东省自然科学基金
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采用准静态C-V特性和高频C-V特性测试技术,结合温偏(B-T)实验,测试了等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)法低温制备的富氮的SiOxNy栅介质膜的电学特性(界面态密度、固定电荷密度、介电常数、可动离子密度),结果表明,制备出的栅介质膜性质优良。
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