Simulation of Substrate Temperature Distribution in Diamond Films Growth on WC-Co Tools Using HFCVD

来源 :材料科学与化学工程(英文) | 被引量 : 0次 | 上传用户:jrwal
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The substrate temperature is an important factor for diamond films fabricated by hot filament chemical vapor deposition (HFCVD), which affects the grain size and quality of diamond films. In order to deposit polycrystalline diamond films with good quality
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