特约主编寄语

来源 :华电技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xuthusboy

【摘要】

：

根据中国信息通信研究院发布的《中国数字经济白皮书2020》,2019年,我国数字经济增加值规模达到35.8万亿元,占国内生产总值(GDP)比重达36.8％,数字经济逐渐成为我国经济发展的

【作者】

：

崔金栋周念成

【机构】

：

东北电力大学;重庆市电机工程学会第五届理事会供电专业委员会

【出处】

：

华电技术

【发表日期】

：

2021年1期

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

根据中国信息通信研究院发布的《中国数字经济白皮书2020》,2019年,我国数字经济增加值规模达到35.8万亿元,占国内生产总值(GDP)比重达36.8％,数字经济逐渐成为我国经济发展的重要推动力.以云计算、大数据、物联网、移动互联网、人工智能和区块链为代表的新一代数字技术通过对信息的采集、存储、分析和共享,实现了数字技术与经济生产的深度融合,人类历史已经全面进入数字经济时代.

其他文献

Fluid simulation of phase-shift effect in hydrogen capacitively coupled plasmas

A two-dimensional self-consistent fluid model coupled with the full set of Maxwell equations is established to investigate the phase shift effect on transient b

会议

Electromagnetic effects on growth and transport of dust particles in VHF capacitively coupled silane

Dust particles have been observed in thin film deposition,etching and other surface modification in microelectronics and nanotechnology processes.

会议

干旱绿洲区土壤动物群落对土壤盐渍化的响应

以内陆干旱区黑河中游绿洲边缘区的天然沙质草地及其转变成的人工梭梭灌木林(21a)、人工杨树林(28a)、人工樟子松林(33a)和农田(开垦27a和100a)为研究对象,基于6种研究样地土

会议

干旱绿洲区土壤动物群落一元回归分析土壤盐渍化内陆干旱区樟子松林演变特征研究对象

In-situ P doped epitaxial Si1-xCx growth under UHV-CVD

As the gate length of transistors is reaching beyond the 32 nm technology nodes,fundamental physics and material limitations,such as off-state leakage current a

会议

苯的使用与人体自身的健康保护

苯是临床检验产室用于擦拭显微镜镜头,及保养和擦拭各种检验仪器的主要药物。因为它有较强的去污能力,所以很受使用者的肯定。但是,苯的毒害以及对人体健康的严重威胁,却未

期刊

检验仪器人体健康防范措施去污能力化学致癌剂白血癌苯接触化学试剂医疗保健药品使用

Studies on the Spatial and Temporal Behaviors of the Electron Energy Distribution and Plasma Paramet

Spatial and temporal behaviors of the electron energy distributions (EEDFs) and the plasma parameters were experimentally studied in inductively coupled plasma

会议

Friction Force Microscopy Study of Annealed Diamond-like Carbon Film

Diamond-like carbon (DLC) films were prepared on silicon substrates by the radio frequency (RF) plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method using m

会议

Patterning of SnO2 / SnTe binary mask structure for extreme ultra-violet lithography using inductive

Currently,extreme ultra-violet lithography (EUVL) is the major candidate of next generation lithography for below 25 nm technology node.

会议

Comparative Study of Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Ni by using Two Metallorganic Precursor

Nickel thin films were deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition (PE-ALD) by using metallorganic precursors and various reactant gases,H2 and NH3,inc

会议

急性放射病

急性放射病：指机体一次或短时间（数日）内受到大剂量照射而引起的全身性疾病。一般说来，一次全身均匀或较均匀地受到约１．０Ｇｙ（１００ｒａｄ）的照射时，即有可能产生轻度急性放射病。根据受照剂量和病情的

期刊

急性放射病受照剂量全身性疾病数日胃肠系统脑型

特约主编寄语

与本文相关的学术论文